特許
J-GLOBAL ID:200903088611309414

パターン照合装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-393932
公開番号(公開出願番号):特開2004-192633
出願日: 2003年11月25日
公開日(公表日): 2004年07月08日
要約:
【課題】照合精度を高くする。【解決手段】第1照合部20Aにおいて、登録指紋と照合指紋とを相関方式(振幅抑制相関法)によって照合し、第2照合部20Bにおいて、登録指紋と照合指紋とを特徴点方式によって照合し、その照合結果を照合判定部20Dへ送る。照合判定部20Dは、何れか一方の方式による照合結果が「一致(OK)」であれば、登録指紋と照合指紋とは「一致(マッチング)」したと判定する。なお、第1照合部20Aによる照合を先に行い、その照合結果が「不一致(NG)」であった場合、第2照合部20Bによる照合を行うようにしてもよい。また、どちらの方式の照合を先に実行するか指定できるようにしてもよい。指紋など2次元に限らず、1次元、3次元などのパターンでも同様にして適用できる。【選択図】 図9
請求項(抜粋):
登録パターンと照合パターンとの照合を行うパターン照合装置において、 前記登録パターンと前記照合パターンとの照合をこれらパターン間の相関値に基づいて実行する第1の照合手段と、 前記登録パターンと前記照合パターンとの照合を予め定義された特徴パラメータに基づいて実行する第2の照合手段と、 前記第1の照合手段による照合結果と前記第2の照合手段による照合結果のうち、少なくとも何れか一方の照合結果が前記登録パターンと前記照合パターンとの一致を示す照合結果であった場合、前記登録パターンと前記照合パターンとが一致したと判定する照合判定手段と を備えたことを特徴とするパターン照合装置。
IPC (2件):
G06T7/00 ,  G06T7/60
FI (3件):
G06T7/00 530 ,  G06T7/60 150B ,  G06T7/60 150P
Fターム (43件):
5B043AA09 ,  5B043BA02 ,  5B043CA02 ,  5B043DA05 ,  5B043EA06 ,  5B043EA07 ,  5B043EA08 ,  5B043EA10 ,  5B043EA12 ,  5B043EA13 ,  5B043EA15 ,  5B043FA07 ,  5B043GA02 ,  5B043GA04 ,  5B043GA11 ,  5B043GA18 ,  5L096AA06 ,  5L096BA15 ,  5L096CA02 ,  5L096CA14 ,  5L096DA02 ,  5L096EA03 ,  5L096EA15 ,  5L096EA16 ,  5L096EA28 ,  5L096EA43 ,  5L096FA10 ,  5L096FA13 ,  5L096FA23 ,  5L096FA32 ,  5L096FA34 ,  5L096FA59 ,  5L096FA66 ,  5L096FA67 ,  5L096FA69 ,  5L096GA19 ,  5L096JA03 ,  5L096JA14 ,  5L096JA16 ,  5L096KA03 ,  5L096KA15 ,  5L096LA05 ,  5L096MA01
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • パターン照合装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-107244   出願人:山武ハネウエル株式会社
  • 指紋照合装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-217939   出願人:山武ハネウエル株式会社
  • 特開平1-211184号公報

前のページに戻る