投影光学装置の調整方法及び露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-009687
公開番号（公開出願番号）：特開平8-203805
出願日： 1995年01月25日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：

【要約】【目的】複雑な組立調整を行うことなく、ディストーションのランダム成分を補正すること。【構成】所定の被加工部材を光路中に有する投影光学系における残存ディストーション成分を計測する第1工程と、第1工程の計測結果に基づいて、前記残存ディストーション成分を相殺する如き前記被加工部材の表面形状を算出する第2工程と、被加工部材を前記投影光学系から取り出し、前記第2工程にて算出された表面形状となるように前記被加工部材を加工する第3工程と、第3工程にて加工された前記被加工部材を前記投影光学系の光路中に挿入する第4工程とを有する調整方法を投影光学装置に施す。

請求項（抜粋）：

所定の被加工部材を光路中に有する投影光学系における残存ディストーション成分を計測する第1工程と、前記第1工程の計測結果に基づいて、前記残存ディストーション成分を相殺する如き前記被加工部材の表面形状を算出する第2工程と、前記被加工部材を前記投影光学系から取り出し、前記第2工程にて算出された表面形状となるように前記被加工部材を加工する第3工程と、前記第3工程にて加工された前記被加工部材を前記投影光学系の光路中に挿入する第4工程とを有する投影光学装置の調整方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 516 A , H01L 21/30 514 E

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭62-035619
投影露光方法とそのための装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-060273 出願人：富士通株式会社
特開昭59-144127

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