パターン欠陥検査装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-294854
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107669
出願日： 2001年09月26日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：

【要約】【課題】クロムパターンと位相シフトパターンの混在フォトマスクにおいて、擬似欠陥を検出すること無く、両パターンを同時に検査できるパターン欠陥検査装置を提供する。【解決手段】遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。

請求項（抜粋）：

パターンが形成された試料に光を照射し、前記パターンの光学像を受光して光電変換する光電変換手段と、前記光電変換手段で得られた信号を基にして前記パターンに対応した測定パターンデータを発生する測定パターンデータ発生手段と、前記試料に遮光パターンを形成するときに用いられるアライメントマーク情報つきの遮光パターン設計データと、位相シフトパターンを形成するときに用いられるアライメントマーク情報つきの位相シフトパターン設計データとを格納する記憶手段と、前記遮光パターン設計データをビットパターン展開して得た第1のビットパターンデータと、前記位相シフトパターン設計データをビットパターン展開して得た第2のビットパターンデータを出力するビットパターン展開手段と、前記遮光パターン設計データに対応して前記試料に形成された前記アライメントマークを計測して得られる第1のアライメント計測情報と、前記位相シフトパターン設計データに対応して前記試料に形成された前記アライメントマークを計測して得られた第2のアライメント計測情報とから求められた前記試料に形成された前記遮光パターンと前記位相シフトパターンの位置ずれ量を用いて、前記遮光パターン設計データと前記位相シフトパターン設計データの位置ずれ量を補正する位置ずれ補正手段と、前記位置ずれ補正手段で前記遮光パターン設計データと前記位相シフトパターン設計データの位置ずれ量が補正された後の、前記第1及び第2のビットパターン展開データを合成し、前記測定パターンデータと比較できる参照データを発生する参照データ発生手段と、前記参照データ発生手段から得た前記参照データと前記測定パターンデータとを比較して前記試料に形成されているパターンの欠陥有無を判定する判定手段と、を具備することを特徴とするパターン欠陥検査装置。

IPC (4件)：

G03F 1/08 , G01B 11/00 , G01B 11/24 , G01N 21/956

FI (4件)：

G03F 1/08 S , G01B 11/00 D , G01N 21/956 A , G01B 11/24 F

Fターム (32件)：

2F065AA20 , 2F065AA54 , 2F065BB02 , 2F065BB17 , 2F065CC20 , 2F065DD03 , 2F065FF02 , 2F065FF67 , 2F065HH13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065PP12 , 2F065QQ23 , 2F065QQ25 , 2F065QQ38 , 2F065RR05 , 2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051AC02 , 2G051CA03 , 2G051CB02 , 2G051EA08 , 2G051EA11 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EB01 , 2G051ED12 , 2G051ED15 , 2H095BB03 , 2H095BD06 , 2H095BD15 , 2H095BD28

引用特許：

出願人引用 (3件)

パターン欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-105673 出願人：株式会社東芝
特開昭64-044448
特開平4-034435

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