特許
J-GLOBAL ID：200903088666689305
オルソビフェニルジフェニルホスフェート組成物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-202905
公開番号（公開出願番号）：特開2007-022925
出願日： 2005年07月12日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：
【課題】 樹脂の可塑剤或いは難燃剤として有用なオルソフェニルジフェニルホスフェート組成物を、高品質で、効率よく、高収率で製造する。【解決手段】式[1]の混合物の製造方法において、オキシ塩化リンの全量、オルソフェニルフェノールの全量及びフェノールの一部を80°C以上150°C未満で脱塩酸反応させる第一反応工程を行い、さらにフェノールの残部を反応容器に入れて150°C以上210°C以下で脱塩酸反応させる第二反応工程を行う。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
一般式[1]で示される混合物(式[1]中、nは0から3までの整数を示す)であって、そのうちn=2の成分であるオルソビフェニルジフェニルホスフェートの含有率が50〜70%である組成物の製造方法において、
原料のオルソフェニルフェノール、フェノール及びオキシ塩化リンを、フリーデルクラフト触媒の存在下で加温して脱塩酸反応をさせるに際し、オキシ塩化リンの全量、オルソフェニルフェノールの全量及びフェノールの一部を80°C以上150°C未満の温度条件下で脱塩酸反応させる第一反応工程を行い、この第一反応工程に引き続き、さらにフェノールの残部を反応容器に入れて150°C以上210°C以下の温度で脱塩酸反応させる第二反応工程を行うことを特徴とするオルソビフェニルジフェニルホスフェート組成物の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
4H050AA02
, 4H050AA03
, 4H050BC10
, 4H050BC11
, 4H050BC31
, 4H050BD60
, 4H050BE54
, 4H050WA15
, 4H050WA23
