特許
J-GLOBAL ID：200903061258942544

ホスフェートの製造方法

発明者：
平尾 清春

平尾 清春 について

, 
小田 将吾

小田 将吾 について


出願人/特許権者：
大八化学工業株式会社

大八化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 三枝 英二 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-141726
公開番号（公開出願番号）：特開2000-327688
出願日： 1999年05月21日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：
【要約】【課題】原料成分を含まない高純度な製品を得ることができるホスフェートの製造方法を提供する。【解決手段】(1)ヒドロキシ化合物とリン化合物とを反応させて反応粗生成物を得る工程、及び(2)該反応粗生成物を水蒸気蒸留によって処理する工程、を含むホスフェートの製造方法であって、有機溶媒を連続的又は間欠的に添加しつつ、(b)工程の水蒸気蒸留を行うことを特徴とするホスフェートの製造方法。
請求項（抜粋）：
(a)ヒドロキシ化合物とリン化合物とを反応させて反応粗生成物を得る工程、及び(b)該反応粗生成物を水蒸気蒸留によって処理する工程、を含むホスフェートの製造方法であって、有機溶媒を連続的又は間欠的に添加しつつ、(b)工程の水蒸気蒸留を行うことを特徴とするホスフェートの製造方法。
IPC (3件)：
C07F 9/12 ,  C08K 5/523 ,  C08L101/16
FI (3件)：
C07F 9/12 ,  C08K 5/523 ,  C08L101/00
Fターム (25件)：
4H050AA02 ,  4H050AA03 ,  4H050AB50 ,  4H050AB80 ,  4H050AD14 ,  4H050BB11 ,  4H050BB12 ,  4H050BC51 ,  4H050BE54 ,  4H050BE60 ,  4H050WA15 ,  4H050WA23 ,  4J002BB001 ,  4J002BC021 ,  4J002BN151 ,  4J002CC031 ,  4J002CD001 ,  4J002CF001 ,  4J002CG001 ,  4J002CH071 ,  4J002CK021 ,  4J002CL001 ,  4J002CM041 ,  4J002EW046 ,  4J002FD136
引用特許：
審査官引用 (5件)
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