特許

J-GLOBAL ID：200903088672805570

感光性組成物

発明者： デイヴィッド・ブゾゾウィ ,  コーカーブ・ジェイ・トマス ,  ジョン・ピー・ハットフィールド ,  ロレンス・フェレイラ ,  アンドルー・ブレイクニー
出願人/特許権者： アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド
代理人 (3件)： 高木 千嘉 ,  結田 純次 ,  三輪 昭次
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-518240
公開番号（公開出願番号）：特表2005-534956
出願日： 2003年06月19日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：

e)構造(A)の化合物を1つまたはそれ以上含有する第1の光酸発生剤(PAG)化合物P1;f)構造(B)の化合物を1つまたはそれ以上含有する第2の光酸発生剤化合物P2;およびg)そのアルカリ溶解性が酸感受性部分の存在によって抑えられまたはそのアルカリ溶解性が酸、場合によっては熱による処理によって取り戻されるポリマー成分を含むポリマーであって、それが、モノマー単位(C)を含むポリマー1つまたはそれ以上からなるもの;およびh)溶媒を含む、基板上にパターン化された画像を作成するのに使用するための放射線感受性組成物。すべての化学式構造は明細書中に定義されている。

請求項（抜粋）：

a)構造(A)の化合物を1つまたはそれ以上含む第1の光酸発生剤(PAG)化合物P1; b)構造(B)の化合物を1つまたはそれ以上含む第2の光酸発生剤化合物P2; c)酸感受性部分の存在によってアルカリ溶解性が抑えられ、また酸および場合によっては熱での処理によってアルカリ溶解性が取り戻されるアルカリ可溶性樹脂成分を含むポリマー成分であって、このポリマーが、モノマー単位(C)を含む1つまたはそれ以上のポリマーからなるもの;および d)溶媒 を含む放射線感受性組成物であって、ここで構造(A)は式:

IPC (5件)：

G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (24件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025FA01 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096DA01 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096HA01 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03 ,  2H096JA04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• フッ素化されたイオン性スルホニルイミド及びスルホニルメチリド、それらの製造方法並びに光開始剤としての使用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-271624   出願人：アラン・ヴァレー, ミシュル・アルマン, グザヴィエ・オリヴラン, クリストフ・ミショト
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-150217   出願人：富士写真フイルム株式会社