特許
J-GLOBAL ID：200903088677597933
スパッタリングターゲット及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
栗原 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-260781
公開番号（公開出願番号）：特開2003-073821
出願日： 2001年08月30日
公開日（公表日）： 2003年03月12日
要約：
【要約】【課題】 初期アークの発生を防止し、初期安定性が著しく向上し、低コストで製造することができるスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。【解決手段】 直線状の加工痕が低減されるように処理することにより、研削等の加工時に生じるバリや研削粉、さらにはちりやゴミが昇華等することにより除去されるためか、ターゲットの使い始めに生じる初期アークを著しく低減することができ、初期安定性を向上させることができる。
請求項（抜粋）：
直線状の加工痕が低減されていることを特徴とするスパッタリングターゲット。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/34 B
, C04B 35/00 R
4G030AA34
, 4G030AA39
, 4G030BA01
, 4G030BA02
, 4G030BA15
, 4G030GA32
, 4K029BA45
, 4K029BA47
, 4K029BA50
, 4K029BC09
, 4K029CA05
, 4K029DC07
, 4K029DC09
, 4K029DC12
