特許

J-GLOBAL ID：200903088696503125

調整可能な選択的エッチング領域を有するパターン化ミラーVCSEL

発明者： ピオトル・グロッジンスキ ,  マイケル・エス・レビイ ,  サイン・チャン・リー
出願人/特許権者： モトローラ・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 大貫 進介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-167887
公開番号（公開出願番号）：特開平8-181393
出願日： 1995年06月12日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：

【要約】【目的】 選択的エッチング領域が調節可能なパターン化されたミラーVCSELが提供される。【構成】 VCSELのパターン化されたミラーは、比較的高い屈折率と低い屈折率を有する屈折層の複数の対から成る第1ミラー・スタック10を形成し、第1ミラー・スタック10の上にアルミニウムを含まない材料の活性領域12を形成し、比較的高い屈折率と低い屈折率を有する屈折層の複数の対から成る第2ミラー・スタック15を形成することによって製造される。第2ミラー・スタック15は、第1部分37と第2部分38を含み、これらの材料は第1と第2の部分間でエッチング速度が異なるように選択される。第2部分38は、第1部分37をエッチング・ストップとして利用することにより、第1部分37に対して選択的にエッチングされる。

請求項（抜粋）：

パターン化されたミラーVCSELを製造する方法であって:第1導電形の第1第1ミラー・スタック(10)を形成し、前記第1ミラー・スタックは比較的高い屈折率と低い屈折率を有する屈折層の複数の対から形成される段階;前記第1ミラー・スタックの上に活性領域(12)を形成する段階;および、前記活性領域の上に第2導電形の第2ミラー・スタック(15)を形成し、前記第2ミラー・スタックは、前記活性領域の上に位置する比較的高い屈折率と低い屈折率を有する屈折層を少なくとも1対含む第1部分(37)、および前記第1部分の上に位置する比較的高い屈折率と低い屈折率を有する屈折層を少なくとも1対含む第2部分(38)によって形成され、完全な第2のミラー・スタックを形成し、第1と第2部分で合計した比較的高い屈折率と低い屈折率を有する屈折層の対の数は、VCSELが動作するのに必要な屈折率を提供するほど十分であり、また前記第1および第2部分は、前記第1と第2部分のエッチング速度を違えて、前記第2部分が前記第1部分に対して選択的にエッチングできるようにする段階:によって構成されることを特徴とする製造方法。

IPC (2件)：

H01S 3/18 ,  H01L 21/3065

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 面発光半導体レーザ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-267473   出願人：日本電信電話株式会社
• 特開平4-263482
  

審査官引用 (2件)

• 面発光半導体レーザ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-267473   出願人：日本電信電話株式会社
• 特開平4-263482