特許

J-GLOBAL ID：200903088747669570

投影露光装置及び投影露光方法

発明者： 宮崎 順二 ,  宮本 照雄 ,  玉田 尚久 ,  松下 琢哉
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 早瀬 憲一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-237908
公開番号（公開出願番号）：特開平7-094398
出願日： 1993年09月24日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：

【要約】【目的】 縦方向Y及び横方向Xに沿って所定周期で繰り返し配置されたパターンを有し、横方向Xにおけるパターン周期が投影露光装置の限界解像度近傍の値であり、縦方向Yのパターン周期が横方向Xのパターン周期のおよそ2倍程度であるフォトマスクのパターンを、パターン周期の小さい横方向Xのパターンに対しては、基板に塗布した感光性材料上で十分な焦点深度を得ることができ、しかも縦及び横の両方向のパターンに対しても、適正な寸法再現性を得ることができる。【構成】 光源の像を2次元的に多数形成する結像光学系の像面又はその近傍に配置されるアパーチャ60を、その中心軸Aに対して線対称となるよう配置された、一対の略台形形状の光透過領域61を有する構造とした。

請求項（抜粋）：

光源と、前記光源の像を2次元的に多数形成する結像光学系と、前記結像光学系の像面又はその近傍に配設され、線対称な一対の略台形形状の領域を光透過部とするアパーチャと、前記結像光学系の像面又はその近傍の面を光学的にフーリエ変換するフーリエ変換光学系と、前記フーリエ変換光学系のフーリエ変換面又はその近傍に設置されたフォトマスクと、前記フォトマスクを通過した光を感光性材料が塗布された基板上に集光させる投影光学系とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-056946   出願人：ソニー株式会社