特許
J-GLOBAL ID：200903088863436036
還元鋳造方法およびこれに用いる鋳造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
綿貫 隆夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-021289
公開番号（公開出願番号）：特開2002-028770
出願日： 2001年01月30日
公開日（公表日）： 2002年01月29日
要約：
【要約】【課題】 配管内の詰まりを防止できる還元鋳造方法および鋳造装置を提供する。【解決手段】 成形型12のキャビティ12a表面に還元性化合物を生成させ、キャビティ12a内に充填された溶湯の表面の金属酸化膜を還元性化合物により還元する還元鋳造方法において、成形型12の直前に、金属ガスと該金属ガスと反応して前記還元性化合物を生成する反応性ガスとを反応させる反応チャンバ28を配置し、該反応チャンバ28で生成した前記還元性化合物をキャビティ12a内に導入してキャビティ12a表面に還元性化合物を生成させ、しかる後にキャビテイ12a内に溶湯を充填することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
成形型のキャビティ表面に還元性化合物を生成させ、キャビティ内に充填された溶湯の表面の金属酸化膜を前記還元性化合物により還元する鋳造方法において、前記成形型の直前に、金属ガスと該金属ガスと反応して前記還元性化合物を生成する反応性ガスとを反応させる反応チャンバを配置し、該反応チャンバで生成した前記還元性化合物を前記キャビティ内に導入してキャビティ表面に還元性化合物を生成させ、しかる後にキャビテイ内に溶湯を充填することを特徴とする還元鋳造方法。
IPC (3件)：
B22D 27/18
, B22C 3/00
, B22D 21/04
B22D 27/18 A
, B22C 3/00 G
, B22C 3/00 H
, B22D 21/04 A
4E092AA01
, 4E092DA10
, 4E092EA10
, 4E092FA10
, 4E092GA03
, 4E092GA10
