特許
J-GLOBAL ID：200903088872453156
金属酸化膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-229277
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086270
出願日： 1993年09月14日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：
【要約】【目的】誘電率の低下を防止し得る金属酸化膜の形成方法を提供すること。【構成】原料として有機金属を用いたCVD法によりキャパシタ絶縁膜32としてのSrTiO3 膜を形成する際に、反応室内に上記有機金属と同時に酸素ガスおよび水蒸気のプラズマを導入する。
請求項（抜粋）：
金属酸化膜をCVD法により形成する金属酸化膜の形成方法において、前記金属酸化膜の成膜に供するガスとして、炭素およびハロゲンの少なくとも一つを含む金属化合物ガスと、酸素および水素を含む物質のプラズマガスとを用いることを特徴とする金属酸化膜の形成方法。
IPC (4件)：
H01L 21/314
, C23C 16/50
, H01L 27/04
, H01L 21/822
