特許

J-GLOBAL ID：200903088880798871

位置決め装置

発明者： 中村 剛 ,  佐治 伸仁
出願人/特許権者： 日本精工株式会社
代理人 (1件)： 田村 敬二郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-115298
公開番号（公開出願番号）：特開2002-313885
出願日： 2001年04月13日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
要約：

【要約】【課題】プロセス室内に挿入された導入軸が受ける吸引力(或いは反発力)を減少させる位置決め装置を提供する。【解決手段】プロセス室の気密を保った状態で、プロセス室外からプロセス室内のワークを位置決めするための位置決め装置は、互いに対向する一対の開口22a、22b、および、前記一対の開口22a、22bを介して外部と連通したプロセス室Pを有する筐体20と、少なくとも1自由度で移動可能であって、前記プロセス室Pをシールしつつ前記一対の開口22a、22bを貫通する軸部材30とを備えている。

請求項（抜粋）：

互いに対向する一対の開口、および、前記一対の開口を介して外部と連通したプロセス室を有する筐体と、少なくとも1自由度で移動可能であって、前記プロセス室をシールしつつ前記一対の開口を貫通する導入軸とを備えてなる位置決め装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  B65G 49/00 ,  G12B 5/00 ,  F16C 32/06

FI (4件)：

H01L 21/68 G ,  B65G 49/00 A ,  G12B 5/00 T ,  F16C 32/06 A

Fターム (29件)：

2F078CA01 ,  2F078CB09 ,  2F078CB16 ,  2F078CC02 ,  2F078CC13 ,  3J102AA02 ,  3J102CA36 ,  3J102EA02 ,  3J102EA13 ,  3J102EA22 ,  3J102GA18 ,  5F031HA53 ,  5F031HA57 ,  5F031HA58 ,  5F031HA59 ,  5F031HA60 ,  5F031KA06 ,  5F031KA07 ,  5F031KA08 ,  5F031KA10 ,  5F031LA02 ,  5F031MA11 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA07 ,  5F031NA13 ,  5F031PA06 ,  5F031PA18 ,  5F031PA23

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 真空室内の可動サポートおよびリソグラフィ投影装置への可動サポートの応用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-114659   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
• リソグラフィ投影装置およびそれを使用した装置を製造する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-114656   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ