特許
J-GLOBAL ID：200903088930505889
薄膜を被着するための真空処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-097027
公開番号（公開出願番号）：特開平10-280131
出願日： 1998年04月09日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：
【要約】【課題】 種々異なったサイズの、特に極度に複雑な形状のサブストレートを個々のコンテナ内に配置して加工できるばかりでなく、真空室を通気してサブストレートをサブストレート支持体から別のサブストレート支持体へ引渡す必要なしに、サブストレートに多種の処理を施せるようにする。【解決手段】 真空室2の真空室密閉蓋58内及び/又は真空室ボトムプレート12内には軸14又はねじスピンドルが、処理室開口平面に対して平行に延在するように軸支されており、前記軸14又はねじスピンドルが、これによって保持されかつ動かされて処理室開口4〜7を密閉するための閉鎖プレート23〜26と、該閉鎖プレートを半径方向内寄りの開放位置から半径方向外寄りの閉鎖位置へ移動させるための作動子19〜22とを備えている。
請求項（抜粋）：
サブストレート(36〜39)に薄膜を被着するための真空処理装置において、真空室(2)のリング状又はフレーム状の側壁(3)によって保持されかつ成膜処理工具(41,42)を内蔵した複数の定置の処理室(8〜11)が設けられており、該処理室が、エアロックゲートを介して前記サブストレート(36〜39)を搬入・搬出するために、外周から内方へ前記真空室(2)の中心に向かって方位づけられて互いに平行な平面内で延びる処理室開口(4〜7)を備えており、前記真空室(2)の真空室密閉蓋(58)内及び/又は真空室ボトムプレート(12)内には軸(14,14′)又はねじスピンドル(47)が、前記処理室開口平面に対して平行に延在するように軸支されており、前記の軸(14,14′)又はねじスピンドル(47)が、これによって保持されかつ動かされて前記処理室開口(4〜7)を密閉するための閉鎖プレート(23〜26)と、該閉鎖プレート(23〜26)を半径方向内寄りの開放位置から半径方向外寄りの閉鎖位置へ移動させるための作動子(19〜22;43〜46;52〜55)とを備えており、しかも前記の軸(14,14′)又はねじスピンドル(47)と協働する作動子が、レバー伝動機構(19〜22; 52〜55)又はテレスコープ運動可能なブラケット(43〜46)として構成されており、かつ前記閉鎖プレート(23〜26)が夫々、処理室(8〜11)に対面した側面にサブストレートホルダー又はサブストレートグリッパ(32〜35)を有していることを特徴とする、薄膜を被着するための真空処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/24 J
, C23C 14/50 K
