特許

J-GLOBAL ID：200903089029027524

フォトマスクの目合わせマーク及び半導体装置

発明者： 比留間 貴美 ,  佐藤 記史
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-329311
公開番号（公開出願番号）：特開平9-166866
出願日： 1995年12月18日
公開日（公表日）： 1997年06月24日
要約：

【要約】【課題】 XノギスとYノギスを有するフォトマスクの目合わせマークでは、X方向及びY方向に対して傾斜されたθ方向の目合わせずれを測定するための時間が長くなり、しかも高精度に測定することが困難である。【解決手段】 互いに目合わせさせるフォトマスクの各目合わせマークが、X方向の目合わせを測定するXノギス1と、Y方向の目合わせを測定するYノギス2と、X方向とY方向の両方に対して傾斜されたθ方向の目合わせを測定するθ1ノギス3とで構成される。各ノギスを光学顕微鏡等により観察することでX方向とY方向の目合わせずれを容易に測定できることは勿論のこと、θ1ノギス3を観察することでθ方向の目合わせずれを迅速にしかも高精度で測定することが可能となる。

請求項（抜粋）：

一のフォトマスクに形成された第1の目合わせマークと、他のフォトマスクに形成された第2の目合わせマークとを相対比較して両フォトマスクの目合わせを行うための目合わせマークにおいて、前記第1の目合わせマークと第2の目合わせマークとはそれぞれX方向の目合わせを測定するXノギスと、Y方向の目合わせを測定するYノギスと、X方向とY方向の両方に対して傾斜されたθ方向の目合わせを測定するθノギスとで構成されていることを特徴とするフォトマスクの目合わせマーク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 N ,  H01L 21/30 502 M

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-373725
  
• 特開平1-193743
  
• 露光用マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-282929   出願人：日本電気株式会社