露光用マスク

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-282929
公開番号（公開出願番号）：特開平9-127680
出願日： 1995年10月31日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】【課題】露光装置の回転ずれの検出と修正が容易ではない。【解決手段】一定間隔の第1パターン4Aと一定の割合で間隔が狭くなる第2パターン4Bとを、露光した場合この第1パターン4Aと第2パターン4Bとが対向するようにスクライブ線形成領域2のコーナー部5A〜5Dに設ける。

請求項（抜粋）：

半導体素子のパターン形成領域と、このパターン形成領域の周囲に設けられたスクライブ線形成領域と、このスクライブ線形成領域の4つのコーナー部にスクライブ線形成領域の長手方向と垂直に設けらた露光装置による回転方向の重ね合せずれ量検出用のチェックパターンとを有する露光用マスクにおいて、前記チェックパターンは一定間隔で形成された第1のパターンと隅から離れるにつれて一定の割合でその間隔が狭くなる第2のパターンとから構成され、かつ前記4つのコーナー部が1点で接して露光されてパターンが形成された場合、各コーナー部の境界線を挟んで前記第1のパターンと前記第2のパターンとが対向するように配設されていることを特徴とする露光用マスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 N , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 502 M

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭63-151948
特開平2-106745
レチクル
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-136477 出願人：日本電気株式会社

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