特許
J-GLOBAL ID:200903089050649292
フォトレジスト用アルカリ現像液又はその現像廃液又はその処理液の分析管理方法及び装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三浦 進二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-020904
公開番号(公開出願番号):特開平10-207082
出願日: 1997年01月21日
公開日(公表日): 1998年08月07日
要約:
【要約】【課題】 (使用中の)フォトレジスト用アルカリ現像液等の吸光度を測定することにより、その品質管理等を容易に行なうことができる分析管理方法及び装置を提供する。【解決手段】 (使用中の)フォトレジスト用アルカリ現像液、その現像廃液又はその処理液の吸光度(測定波長:230nm以上の紫外可視領域)を吸光分光分析器(吸光光度計)で測定し、間接的にそのフォトレジストジスト濃度を定量する。併せて、そのアルカリ濃度を(自動)滴定分析器で定量してもよい。かかる定量によりフォトレジスト用アルカリ現像液の品質管理を容易に行なうことができ、現像廃液の状態を容易に把握してその分別を確実に行なうことができ、再生現像液を得る場合は、プロセス管理及び品質管理を容易且つ正確に行なうことができる。
請求項(抜粋):
アルカリを主剤とするフォトレジスト用アルカリ現像液或いはその現像廃液又はその処理液の吸光度を吸光分光分析器(吸光光度計)により測定し、前記アルカリ現像液或いは前記現像廃液又は前記処理液中のフォトレジスト濃度の定量を行うことを特徴とするフォトレジスト用アルカリ現像液又はその現像廃液又はその処理液の分析管理方法。
IPC (6件):
G03F 7/32
, G01N 21/27
, G01N 21/80
, G01N 27/26 341
, G01N 27/26 361
, H01L 21/027
FI (6件):
G03F 7/32
, G01N 21/27 Z
, G01N 21/80
, G01N 27/26 341 A
, G01N 27/26 361 E
, H01L 21/30 569 E
引用特許:
審査官引用 (1件)
-
基板現像装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-255426
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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