特許

J-GLOBAL ID：200903089159917173

研磨性を有する微粉末沈澱ケイ酸の製造方法

発明者： 内山 健治
出願人/特許権者： 日本シリカ工業株式会社
代理人 (1件)： 塩澤 寿夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-196473
公開番号（公開出願番号）：特開平9-048611
出願日： 1995年08月01日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【課題】 塩化ナトリウム等の電解質物質を添加することなく、アルミニウム板の摩耗減量値が2mg以上の優れた研磨性を有する沈澱ケイ酸を製造できる沈殿ケイ酸の新規な製造方法を提供すること。【解決手段】 ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸または鉱酸水溶液とを反応容器に並行して実質上連続的に添加することにより沈殿ケイ酸を製造する方法であって、反応溶液のpHを9〜11の範囲に維持し、反応溶液のSiO2 濃度の平均上昇率を40〜80g/リットル・時間の範囲となるようにケイ酸アルカリ水溶液の添加速度を調整し、反応終了時の反応溶液のSiO2 濃度を90〜130g/リットルの範囲とすることを特徴とする沈澱ケイ酸の製造方法。

請求項（抜粋）：

ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸または鉱酸水溶液とを反応容器に並行して実質上連続的に添加することにより沈殿ケイ酸を製造する方法であって、反応溶液のpHを9〜11の範囲に維持し、反応溶液のSiO2 濃度の平均上昇率を40〜80g/リットル・時間の範囲となるようにケイ酸アルカリ水溶液の添加速度を調整し、反応終了時の反応溶液のSiO2 濃度を90〜130g/リットルの範囲とすることを特徴とする沈澱ケイ酸の製造方法。

IPC (3件)：

C01B 33/193 ,  B24B 37/00 ,  A61K 7/16

FI (3件)：

C01B 33/193 ,  B24B 37/00 H ,  A61K 7/16

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 沈降シリカの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-184672   出願人：デグッサアクチェンゲゼルシャフト

審査官引用 (1件)

• 沈降シリカの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-184672   出願人：デグッサアクチェンゲゼルシャフト