特許
J-GLOBAL ID：200903089171006259
紫外線露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-194811
公開番号（公開出願番号）：特開平7-050237
出願日： 1993年08月05日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 紫外線を用いて半導体基板上の感光材料膜等、パターンを形成するための紫外線露光装置に関し、紫外線を発光するランプを十分冷却できると共に、堆積を減少することのできる紫外線露光装置を提供する。【構成】 紫外線発光ランプ1と、前記紫外線発光ランプを取り囲み、冷却流体を通過させる独立した流体路を形成すると共に、紫外線4を透過させる冷却流体路2と、照明光学系5と、前記冷却流体路2と結合し、前記照明光学系を取り囲んだ閉じた空間を形成する露光室6とを有する。
請求項（抜粋）：
紫外線発光ランプ(1)と、前記紫外線発光ランプ(1)を取り囲み、冷却流体を通過させる独立した流体路を形成すると共に、紫外線を透過させる冷却流体路(2)と、照明光学系(5)と、前記冷却流体路(2)と結合し、前記照明光学系(5)を取り囲んだ閉じた空間を形成する露光室(6)と、前記露光室(6)内の気体を循環させる気体循環系(7、8)とを有する紫外線露光装置。
引用特許：
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