特許

J-GLOBAL ID：200903089173303820

磁気抵抗効果膜、磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド及び磁気記録再生装置

発明者： 神保 睦子 ,  綱島 滋
出願人/特許権者： 大同特殊鋼株式会社
代理人 (1件)： 荒崎 勝美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-028924
公開番号（公開出願番号）：特開平8-203035
出願日： 1995年01月26日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：

【要約】【目的】 低磁界で高い磁気抵抗変化率を示す磁気抵抗効果膜、磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド及び磁気記録再生装置を提供すること。【構成】 磁性層、非磁性層及び磁性層を積層した三層膜、磁性層、非磁性層、磁性層、非磁性層及び磁性層を積層した五層膜、並びにこれら三層膜及び五層膜の磁性層の上又は下に反強磁性層を有する磁気抵抗効果膜において、上記磁性層の少なくとも一層にアモルファス磁性合金を用いた磁気抵抗効果膜、この磁気抵抗効果膜を用いた磁気抵抗効果素子、この素子を用いた磁気ヘッド及びこの磁気ヘッドを用いた磁気記録再生装置。

請求項（抜粋）：

磁性層、非磁性層及び磁性層を積層した三層膜、磁性層、非磁性層、磁性層、非磁性層及び磁性層を積層した五層膜、並びにこれら三層膜及び五層膜の磁性層の上又は下に反強磁性層を有する磁気抵抗効果膜において、上記磁性層の少なくとも一層にアモルファス磁性合金を用いたことを特徴とする磁気抵抗効果膜。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 磁気抵抗変化素子、磁気ヘツド、磁気記録装置、並びに磁気抵抗変化素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-209546   出願人：株式会社日立製作所
• 磁気抵抗素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-214201   出願人：日立マクセル株式会社
• 特開昭58-068211
  
• 多層磁気抵抗効果膜および磁気ヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-304572   出願人：株式会社日立製作所