特許
J-GLOBAL ID：200903089185376466
矩形ビーム用精密焦点合せ方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 義雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-161361
公開番号（公開出願番号）：特開2000-349043
出願日： 1999年06月08日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：
【要約】【課題】 加工光学系に対してワークを簡易かつ極めて精密に位置合わせすることができる焦点調節法を提供することを目的とする。【解決手段】 ワークW上の3点を非接触変位計70の計測点に移動させ、これら3点の高さに関する計測値を得る。次に、これら3点の高さが同じ値になるようチルト装置42によりチルト角θX、θYを調整する。再び、並進装置44によってワークWをXY面内で適宜移動させ、ワークW上の3点について高さに関する計測値を得る。このようにして、3点の高さ計測とチルト角の調整を繰り返すことにより、傾きによる高さ計測の誤差は徐々に小さくなる。最終的に3点の計測値が一致した状態では、θX=0、θY=0となって傾き0の状態となる。このときのいずれか1点の高さ計測値が加工領域の高さとなる。最後に、チルト装置42をZステージとして動作させ、目的の高さになるよまでステージ30を昇降させる。
請求項（抜粋）：
加工光を所定の状態で被加工体に照射するための照射光学系と、前記被加工体を載置するとともに、前記照射光学系に対して前記被加工体の位置及び傾きを調整するステージ装置と、前記被加工体上の平坦な領域を計測ターゲットとして検査光を入射させる投光手段と、前記計測ターゲットからの正反射光を受けて当該正反射光の入射位置に関する情報を出力する受光手段と、前記入射位置に関する情報に基づいて前記計測ターゲットの高さに対応する情報を含む計測値を得る換算手段とを備える非接触変位計と、前記被加工体上に配置されて同一面内にある3つ以上の異なる計測ターゲットを前記非接触変位計によって計測した計測値に基づいて前記ステージ装置を駆動して前記被加工体の傾きと位置を調整する制御装置とを備える焦点調節装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/268 J
, H01L 21/268 T
, H01L 21/20
5F052AA02
, 5F052BA12
, 5F052BB07
, 5F052DA02
