特許
J-GLOBAL ID：200903089185726220
限外濾過機能を備える超純水供給プラント、および超純水の供給方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-012279
公開番号（公開出願番号）：特開平10-099855
出願日： 1997年01月27日
公開日（公表日）： 1998年04月21日
要約：
【要約】【課題】 末端からの出力水の純度が極めて高く、しかも安定した超純水の供給が可能な上、再稼働時での生産性の高い調整作業が可能な超純水供給プラントと、超純水供給方法を提供する。【解決手段】 超純水生成装置2と、超純水生成装置2の二次側に接続されて、生成された超純水を半導体洗浄工程8まで運ぶ配管系統3とからなる超純水供給プラント1において、配管系統3の末端あるいは最下流部に限外濾過装置4を接続設置し、配管系統3中を通過して末端に至った超純水を限外濾過装置4にて限外濾過処理し、限外濾過処理後の超純水5を半導体洗浄工程8に供給する。
請求項（抜粋）：
超純水生成装置と、前記超純水生成装置の二次側に接続されて、生成された超純水を半導体洗浄工程まで運ぶ配管系統とからなる超純水供給プラントにおいて、前記配管系統の末端あるいは最下流部に限外濾過装置を接続設置し、前記配管系統中を通過して末端に至った超純水を前記限外濾過装置にて限外濾過処理し、限外濾過処理後の超純水を半導体洗浄工程に供給する構成としたことを特徴とする超純水供給プラント。
IPC (6件)：
C02F 1/44
, B01D 61/08
, B01D 61/18
, B01D 61/58
, B01D 65/00
, H01L 21/304 341
C02F 1/44 J
, B01D 61/08
, B01D 61/18
, B01D 61/58
, B01D 65/00
, H01L 21/304 341 Z
