特許
J-GLOBAL ID：200903089186195791
回転式基板塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-173287
公開番号（公開出願番号）：特開平9-027444
出願日： 1995年07月10日
公開日（公表日）： 1997年01月28日
要約：
【要約】【課題】 ミストによる基板表面の汚染を防止しつつ基板上に均一な塗布膜を形成することができる回転式基板塗布装置を提供することである。【解決手段】 塗布室1内の吸気量および排気量をシーケンシャルに制御する制御部20を設ける。制御部20のシーケンスコントローラ21は、予めプログラムされた回転数パターンに従ってモータ4の回転数を制御するとともに、予めプログラムされた吸排気量パターンに従って吸気量コントローラ22および排気量コントローラ24に吸気量および排気量の制御を指示する。吸気量コントローラ22および排気量コントローラ24は、吸気ダンパー駆動系23および排気ダンパー駆動系25を制御し、吸気ダンパー7の吸気量および排気ダンパー10の排気量をシーケンシャルに制御する。
請求項（抜粋）：
塗布室内で基板上に吐出された塗布液を前記基板を回転させて塗り広げる回転式基板塗布装置において、前記塗布室内の吸気量および排気量を処理過程に応じてシーケンシャルに制御する制御手段を備えたことを特徴とする回転式基板塗布装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B05C 11/08
, G03F 7/16 502
H01L 21/30 564 C
, B05C 11/08
, G03F 7/16 502
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)
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