特許
J-GLOBAL ID:200903089192023315

冷却水系のシリカスケール防止方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内山 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-116607
公開番号(公開出願番号):特開2000-301195
出願日: 1999年04月23日
公開日(公表日): 2000年10月31日
要約:
【要約】【課題】ビル空調、一般工場、石油化学コンビナートなどの熱交換器などの冷却水系のシリカスケール発生を、効果的に防止することができる冷却水系のシリカスケール防止方法を提供する。【解決手段】ガラス質火山砕屑物、ガラス質火山岩、それらの粉砕物又はそれらを加熱処理した発泡体と冷却水系の循環水又は補給水とを接触させることを特徴とする冷却水系のシリカスケール防止方法。
請求項(抜粋):
ガラス質火山砕屑物、ガラス質火山岩、それらの粉砕物又はそれらを加熱処理した発泡体と冷却水系の循環水又は補給水とを接触させることを特徴とする冷却水系のシリカスケール防止方法。
IPC (3件):
C02F 5/00 610 ,  C02F 5/00 620 ,  C02F 1/28
FI (3件):
C02F 5/00 610 Z ,  C02F 5/00 620 C ,  C02F 1/28 A
Fターム (7件):
4D024AA09 ,  4D024BA05 ,  4D024BA14 ,  4D024BB01 ,  4D024BB05 ,  4D024BC01 ,  4D024BC05
引用特許:
審査官引用 (8件)
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