特許

J-GLOBAL ID：200903089195310927

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

発明者： 原田 由香子 ,  吉田 勲 ,  高田 佳幸
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-201692
公開番号（公開出願番号）：特開2008-056668
出願日： 2007年08月02日
公開日（公表日）： 2008年03月13日
要約：

【課題】高い解像度を示し、高感度である化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】例えば式(Ia)で示される塩。(P1〜P3は、炭素数1〜30のアルキル基又は炭素数3〜30の環式炭化水素基を表す。硫黄原子に直接結合するフェニル基は二つ以下とする。P1〜P3は、水酸基、アルキル基、アルコキシ基又は環式炭化水素基を置換基として含んでもよい。Q1、Q2はフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Aは-OH又は-Y1-OHを表す。Y1は炭素数1〜6の直鎖又は分岐アルキレン基を表す。環X1は炭素数3〜30の環式炭化水素基を表し、環X2は炭素数3〜30の環式炭化水素基を表し、環X3は炭素数6〜30の3環以上の多環式炭化水素基を表す。nは1〜9、mは0〜12、lは1〜12の整数を表す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(Ia)で示されることを特徴とする塩。

IPC (6件)：

C07C 309/17 ,  C07C 381/12 ,  C07D 493/08 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07D493/08 C ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (22件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4C071AA03 ,  4C071AA07 ,  4C071BB01 ,  4C071CC11 ,  4C071EE05 ,  4C071FF18 ,  4C071HH09 ,  4C071LL03 ,  4H006AA01 ,  4H006AB84 ,  4H006AB99

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-039501   出願人：住友化学工業株式会社

審査官引用 (5件)

• 表示装置用フィルターおよび表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-159291   出願人：ソニー株式会社
• 特許第5018439号
  
• 新規光酸発生剤を含有するレジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-144955   出願人：信越化学工業株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-019027   出願人：住友化学株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-336495   出願人：住友化学株式会社