特許
J-GLOBAL ID：200903089227691472
パターン化された有機薄膜の製造方法、パターン化された有機薄膜を含む有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-106219
公開番号（公開出願番号）：特開平11-307246
出願日： 1998年04月16日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：
【要約】【課題】均一な、パターン化された有機薄膜を容易に製造する方法、該有機薄膜を用いた高輝度、高発光効率、低駆動電圧の有機EL素子、および該素子の製造方法を提供する。【解決手段】剥離可能な樹脂組成物を基板上に特定のパターンに成膜し、ついで、1μm以下1nm以上の厚みを有する有機薄膜を基板全面に成膜した後、パターンに成膜した該樹脂組成物の膜を剥離することで、該樹脂組成物の膜を成膜した部分以外の基板上に有機薄膜のパターンを形成するパターン化された有機薄膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
剥離可能な樹脂組成物を基板上に特定のパターンに成膜し、ついで、1μm以下1nm以上の厚みを有する有機薄膜を基板全面に成膜した後、パターンに成膜した該樹脂組成物の膜を剥離することで、該樹脂組成物の膜を成膜した部分以外の基板上に有機薄膜のパターンを形成することを特徴とするパターン化された有機薄膜の製造方法。
IPC (4件)：
H05B 33/10
, C09K 11/06 680
, H05B 33/14
, C08L101/00
H05B 33/10
, C09K 11/06 680
, H05B 33/14 A
, C08L101/00
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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