特許

J-GLOBAL ID：200903089229192953

荷電粒子描画装置

発明者： 江頭 満 ,  新谷 紀雄 ,  斉藤 秀一
出願人/特許権者： 科学技術庁金属材料技術研究所長 ,  株式会社アプコ
代理人 (1件)： 岡田 守弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-092988
公開番号（公開出願番号）：特開平11-297265
出願日： 1998年04月06日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、粒子を供給し帯電させた荷電粒子をビーム化し堆積あるいは加工などを行う荷電粒子描画装置に関し、微小粒子を帯電させて加速・集束して試料の所望の部位に照射し、そのときに吸収、放射される信号を検出して画像を表示すると共に試料の部位に微小粒子を堆積あるいは試料の部位を加工することを目的とする。【解決手段】 粒子を供給し帯電させた荷電粒子のビームを放出する粒子銃と、粒子銃から放出された荷電粒子のビームを集束して試料上に細く絞ったビームとして照射するレンズと、レンズによって試料上に細く絞ったビームの照射する位置を偏向する偏向器とを備えるように構成する。

請求項（抜粋）：

粒子を供給し帯電させた荷電粒子を放出しビーム化する粒子銃と、上記粒子銃から放出された荷電粒子のビームを集束して試料上に細く絞ったビームとして照射するレンズと、上記レンズによって試料上に細く絞ったビームの照射する位置を偏向する偏向器とを備えたことを特徴とする荷電粒子描画装置。

IPC (5件)：

H01J 37/305 ,  B25H 7/04 ,  H01J 37/244 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (6件)：

H01J 37/305 A ,  B25H 7/04 Z ,  H01J 37/244 ,  H01L 21/30 541 B ,  H01L 21/30 551 ,  H01L 21/302 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭48-052655
  
• 走査型電子顕微鏡を備えた電子ビーム露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-120443   出願人：株式会社アドバンテスト