特許

J-GLOBAL ID：200903089289024758

光要素をマッピングするための装置

発明者： アビトボル,マーク ,  ブラム,アリエル ,  アリミ,アラン ,  メイムン,エリ
出願人/特許権者： ヴィジョニクス・リミテッド ,  マーク・アビトボル
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-501631
公開番号（公開出願番号）：特表平10-507825
出願日： 1995年06月13日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：

【要約】光要素をマッピングする装置であり、光ビームを光要素に向けて伝送するように配置された光源と、光ビームを対応する複数の光ビーム部分へ分離するように働く複数のビーム分離要素を含むビーム分離器と、前記複数のビーム分離要素と対応する複数の光スポットを含む光スポット・マップを生成するように働く光検知装置と、前記光スポット・マップから光要素の少なくとも1つの特性を取得するように働く、前記スポットの場所以外の情報に少なくとも部分的に基いて個々のスポットと対応するビーム分離要素を識別する装置を含む光要素特性計算装置とを備える装置。

請求項（抜粋）：

光要素をマッピングする装置において、 光ビームを光要素に向けて伝送するように配置された光源と、 前記光ビームを対応する複数の光ビーム部分へ分離するよう働く複数のビーム分離要素を含むビーム分離器と、 前記複数のビーム分離要素と対応する複数の光スポットを含む光スポット・マップを生成するよう働く光検知装置と、 前記光スポット・マップから前記光要素の少なくとも1つの特性を取得するよう働き、前記スポットの場所以外の情報に少なくとも部分的に基いて個々のスポットと対応するビーム分離要素を識別する装置を含む光要素特性計算装置とを備える装置。

IPC (4件)：

G01M 11/02 ,  G01M 11/00 ,  G02C 7/04 ,  G02C 7/06

FI (4件)：

G01M 11/02 B ,  G01M 11/00 L ,  G02C 7/04 ,  G02C 7/06

引用特許：

審査官引用 (8件)

• 特開平4-269640
  
• 特開平2-238338
  
• 対象物のトポグラフイをマツピングする装置と方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-051146   出願人：インテリジエントサージカルレーザーズインコーポレーテツド
• 鏡面形状測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-196110   出願人：三菱電機株式会社
• 画像書込装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-309977   出願人：株式会社リコー
• 特開昭58-205834
  
• 特開平1-311244
  
• 収差測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-079146   出願人：株式会社ニコン

引用文献：

審査官引用 (3件)

• Optical Shop Testing, 1978, p.323〜349
• 国立天文台報, 199410, 第2巻 第2号, p.431〜440
• OPTICAL SHOP TESTING, 1978, p.323〜349