特許

J-GLOBAL ID：200903089345528799

多孔体およびその製造方法

発明者： 後藤 康友 ,  福嶋 喜章 ,  小形 眞一 ,  杉 義弘 ,  窪田 好浩 ,  今田 安紀
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-273368
公開番号（公開出願番号）：特開2002-080216
出願日： 2000年09月08日
公開日（公表日）： 2002年03月19日
要約：

【要約】【課題】 吸着材や分離材として用いた場合に、吸着・分離の選択性および速度を高くすることが可能な多孔体を提供すること。また、吸着材や分離材として用いた場合に、吸着・分離の選択性および速度を高くすることが可能な多孔体を製造可能な製造方法を提供すること。【解決手段】 中心細孔直径が1〜10nmのメソ細孔と、細孔直径が0.05〜0.5μmのマクロ細孔とを有する多孔体であって、前記多孔体の全細孔容積に占める、前記中心細孔直径の±40%の範囲内の直径を有する細孔の全容積の割合が、窒素吸着法に基いて60〜98%であり、前記多孔体の全細孔容積に占める前記マクロ細孔の全容積の割合が、水銀圧入法に基いて20〜50%であることを特徴とする多孔体。

請求項（抜粋）：

中心細孔直径が1〜10nmのメソ細孔と、細孔直径が0.05〜0.5μmのマクロ細孔とを有する多孔体であって、前記多孔体の全細孔容積に占める、前記中心細孔直径の±40%の範囲内の直径を有する細孔の全容積の割合が、窒素吸着法に基いて60〜98%であり、前記多孔体の全細孔容積に占める前記マクロ細孔の全容積の割合が、水銀圧入法に基いて20〜50%であることを特徴とする多孔体。

IPC (3件)：

C01B 33/12 ,  B01J 20/10 ,  B01J 20/30

FI (3件)：

C01B 33/12 Z ,  B01J 20/10 A ,  B01J 20/30

Fターム (22件)：

4G066AA17A ,  4G066AA22B ,  4G066BA23 ,  4G066BA24 ,  4G066BA32 ,  4G066FA03 ,  4G066FA11 ,  4G066FA21 ,  4G066FA37 ,  4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072JJ26 ,  4G072LL06 ,  4G072MM04 ,  4G072MM22 ,  4G072MM31 ,  4G072MM36 ,  4G072RR12 ,  4G072TT08 ,  4G072UU11

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 非晶質シリカの製造方法及び炭酸カルシウム内包非晶質シリカ二次粒子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-032285   出願人：日本インシュレーション株式会社