特許
J-GLOBAL ID:200903089381318075
形状測定方法およびその装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石原 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-322515
公開番号(公開出願番号):特開2001-141443
出願日: 1999年11月12日
公開日(公表日): 2001年05月25日
要約:
【要約】【課題】比較的大径の測定物の測定データにピッチング誤差に起因して含まれる座標ずれを正確に補正して、高精度測定を行うことのできる形状測定方法およびその装置を提供する。【解決手段】X,Yステージ11,12のピッチング特性に基づくピッチング補正テーブル18を作成する処理工程と、測定用プローブ2を測定面1aに対し走査して相対座標系の形状測定データを取得する処理工程と相対座標系の形状測定データを絶対座標系に変換する処理工程と、絶対座標系の形状測定データの座標値を前記ピッチング補正テーブルに基づき補正する処理工程と、補正した形状測定データから測定面の設計データを差し引いた形状誤差データを算出する手段とを備えている。
請求項(抜粋):
X,Yステージのピッチング特性を測定して、そのピッチング特性に基づきピッチング補正テーブルを作成する処理工程と、測定用プローブを測定物の測定面に対し走査することにより、測定面形状から求められる測定基準位置を測定原点とした相対座標系の形状測定データを取得する処理工程と、前記相対座標系の形状測定データを、前記X,Yステージの機械原点からのオフセット値に基づき前記機械原点を基準とする絶対座標系に変換する処理工程と、前記絶対座標系の形状測定データの座標値を、前記ピッチング補正テーブルに基づき補正する処理工程と、補正した前記形状測定データから前記測定面の設計データを差し引いた形状誤差データを算出する手段とを備えていることを特徴とする形状測定方法。
IPC (4件):
G01B 21/20 101
, G01B 11/00
, G01B 11/26
, G01B 21/30
FI (4件):
G01B 21/20 101 Z
, G01B 11/00 B
, G01B 11/26 G
, G01B 21/30 Z
Fターム (41件):
2F065AA04
, 2F065AA06
, 2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065CC22
, 2F065DD19
, 2F065EE00
, 2F065EE05
, 2F065FF51
, 2F065FF65
, 2F065FF67
, 2F065GG04
, 2F065MM07
, 2F065PP04
, 2F065PP11
, 2F065QQ00
, 2F065QQ13
, 2F065QQ17
, 2F065QQ18
, 2F065QQ23
, 2F065QQ25
, 2F065QQ42
, 2F065RR10
, 2F069AA57
, 2F069AA60
, 2F069AA66
, 2F069AA71
, 2F069AA93
, 2F069DD22
, 2F069EE04
, 2F069EE12
, 2F069EE23
, 2F069GG01
, 2F069GG07
, 2F069GG62
, 2F069HH01
, 2F069HH02
, 2F069JJ08
, 2F069LL02
, 2F069MM04
, 2F069MM32
引用特許:
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