特許

J-GLOBAL ID：200903089396012908

金属酸化膜の形成方法

発明者： 並木 恒久 ,  家木 敏秀 ,  倉島 秀夫 ,  稲垣 肇 ,  小林 亮
出願人/特許権者： 東洋製罐株式会社
代理人 (2件)： 小野 尚純 ,  奥貫 佐知子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-349631
公開番号（公開出願番号）：特開2004-149922
出願日： 2003年10月08日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：

【課題】 プラスチック等の基材の表面に、プラズマCVD法により、密着性や柔軟性、可撓性に優れた金属酸化膜を形成する方法を提供する。【解決手段】 プラズマCVD法により有機金属と酸化性ガスとを反応させて所定の基材表面にガス遮断性を有する金属酸化膜を形成する方法において、低出力領域でのグロー放電によって有機金属が主体とする反応を行った後、高出力領域でのグロー放電によって有機金属と酸化性ガスとの反応を行うことを特徴とする。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

プラズマCVD法により有機金属と酸化性ガスとを反応させて所定の基材表面にガス遮断性を有する金属酸化膜を形成する方法において、 低出力領域でのグロー放電によって有機金属が主体とする反応を行った後、高出力領域でのグロー放電によって有機金属と酸化性ガスとの反応を行うことを特徴とする金属酸化膜の形成方法。

IPC (3件)：

C23C16/42 ,  B65D23/02 ,  B65D25/14

FI (3件)：

C23C16/42 ,  B65D23/02 Z ,  B65D25/14 Z

Fターム (17件)：

3E062AA09 ,  3E062AC02 ,  3E062JA07 ,  3E062JB24 ,  3E062JC04 ,  3E062JD01 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA14 ,  4K030BA44 ,  4K030CA07 ,  4K030CA14 ,  4K030FA01 ,  4K030JA01 ,  4K030JA16 ,  4K030LA01 ,  4K030LA11

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 実開昭49-50563号公報
  
• 特開昭49-58171号公報
  
• ガス遮断性積層プラスチックス材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-195784   出願人：東洋製罐株式会社
• 特許第2526766号公報
  

審査官引用 (3件)

• ガス遮断性積層プラスチックス材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-195784   出願人：東洋製罐株式会社
• ガスバリアフィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-052307   出願人：大日本印刷株式会社
• 撥水性防汚フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-309482   出願人：大日本印刷株式会社