特許

J-GLOBAL ID：200903089429426371

蒸着方法及び蒸着装置

発明者： 安田 壽和 ,  目々澤 聡彦 ,  風田川 統之 ,  大前 暁 ,  簗嶋 克典
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-154140
公開番号（公開出願番号）：特開2005-226154
出願日： 2004年05月25日
公開日（公表日）： 2005年08月25日
要約：

【課題】 真空チャンバ内に蒸着物質が付着して堆積することを最小限に抑えることにより、蒸着原料の利用効率と成膜速度を高く保ちながら、均一な膜厚で高純度の蒸着膜を形成することができ、その際、滑らかな表面性を有するアモルファス化有機化合物膜や多成分共蒸着膜を作製できる蒸着方法及び蒸着装置を提供すること。【解決手段】 真空チャンバ1内で基板3と蒸着源5とを対向させる。蒸着源5の周囲に、ガス15の導入部11を設け、蒸着源5の周囲から基板3の方向へ向かうガスの流れ10を形成し、このガス流10によって蒸着源5から放出された蒸着物質の蒸気分子の飛行方向9を基板3の方向へ規制する。また、蒸着物質5aを収容する容器5bの周壁を突出して設け、この周壁突出部分18を蒸着物質5aが堆積しない温度に制御し、前記蒸気分子を基板3の方へ導くバリアおよびガイドとして機能させる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基体上に蒸着膜を形成するに際し、前記基体と蒸着源とを対向させ、前記蒸着源の周囲から前記基体の方向へ向かうガスの流れを形成し、このガス流によって前記蒸着源から放出された蒸着物質の飛行方向を前記基体の方向へ規制する、蒸着方法。

IPC (3件)：

C23C14/24 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (3件)：

C23C14/24 M ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (16件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA02 ,  4K029AA04 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029CA02 ,  4K029DA05 ,  4K029DB12 ,  4K029DB17 ,  4K029DB18

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 真空蒸着装置及び真空蒸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-187123   出願人：松下電工株式会社, 城戸淳二
• 有機薄膜の低圧蒸着
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-521253   出願人：ザトラスティーズオブプリンストンユニバーシティ