特許
J-GLOBAL ID:200903089476296729

水素発生・貯蔵装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 秀治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-223147
公開番号(公開出願番号):特開2003-035400
出願日: 2001年07月24日
公開日(公表日): 2003年02月07日
要約:
【要約】【課題】 水素の貯蔵または供給に利用する水素付加反応あるいは脱水素反応の反応効率を高めること。【解決手段】 水素を放出して芳香族化合物に変化する水素発生体と、水素と反応してその水素を貯蔵する芳香族化合物から成る水素貯蔵体との間における脱水素反応または水素付加反応を利用して水素の発生または貯蔵を行う水素発生・貯蔵装置であって、水素発生体または水素貯蔵体を脱水素反応または水素付加反応させるための触媒を備えた触媒部21と、気化した水素発生体または水素貯蔵体を冷却し液化するための冷却部18とを、交互に配置している。
請求項(抜粋):
水素を放出して芳香族化合物に変化する水素発生体と、上記水素と反応してその水素を貯蔵する上記芳香族化合物から成る水素貯蔵体との間における脱水素反応または水素付加反応を利用して水素の発生または貯蔵を行う水素発生・貯蔵装置であって、上記水素発生体または上記水素貯蔵体を上記脱水素反応または上記水素付加反応させるための触媒を備えた触媒部と、気化した上記水素発生体または上記水素貯蔵体を冷却し液化するための冷却部とを、交互に配置したことを特徴とする水素発生・貯蔵装置。
IPC (3件):
F17C 11/00 ,  C01B 3/00 ,  C01B 3/26
FI (3件):
F17C 11/00 B ,  C01B 3/00 A ,  C01B 3/26
Fターム (10件):
3E072AA03 ,  3E072DB10 ,  3E072EA10 ,  4G040AA11 ,  4G040AA12 ,  4G040AA16 ,  4G040AA42 ,  4G040DA05 ,  4G040DB03 ,  4G040DB05
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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