特許
J-GLOBAL ID：200903089483236103

放射線画像変換パネル及び放射線画像変換パネルの製造方法

発明者：
前澤 明弘

前澤 明弘 について

, 
三科 紀之

三科 紀之 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタホールディングス株式会社

コニカミノルタホールディングス株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-248435
公開番号（公開出願番号）：特開2004-085430
出願日： 2002年08月28日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：
【課題】蛍光体層中の賦活剤の均一性に優れ、且つ、高輝度、高鮮鋭性である放射線画像変換パネル及び放射線画像変換パネルの製造方法の提供。【解決手段】支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、少なくとも1層の該輝尽性蛍光体層が気相法により50μm〜10mmの膜厚を有するように形成され、該蛍光体層の蛍光体膜の融点が単一であることを特徴とする放射線画像変換パネル。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、少なくとも1層の該輝尽性蛍光体層が気相法(気相堆積法ともいう)により50μm〜10mmの膜厚を有するように形成され、該輝尽性蛍光体層の蛍光体膜の融点が単一であることを特徴とする放射線画像変換パネル。
IPC (7件)：
G21K4/00 ,  C09K11/00 ,  C09K11/08 ,  C09K11/61 ,  C09K11/85 ,  C23C14/06 ,  G01T1/00
FI (7件)：
G21K4/00 M ,  C09K11/00 B ,  C09K11/08 A ,  C09K11/61 ,  C09K11/85 ,  C23C14/06 G ,  G01T1/00 B
Fターム (50件)：
2G083AA03 ,  2G083BB01 ,  2G083CC02 ,  2G083DD01 ,  2G083DD02 ,  2G083DD11 ,  2G083DD12 ,  2G083EE02 ,  2G083EE03 ,  4H001CA04 ,  4H001CA08 ,  4H001CF01 ,  4H001XA00 ,  4H001XA03 ,  4H001XA04 ,  4H001XA09 ,  4H001XA11 ,  4H001XA12 ,  4H001XA13 ,  4H001XA17 ,  4H001XA19 ,  4H001XA20 ,  4H001XA21 ,  4H001XA28 ,  4H001XA29 ,  4H001XA30 ,  4H001XA31 ,  4H001XA35 ,  4H001XA37 ,  4H001XA38 ,  4H001XA39 ,  4H001XA48 ,  4H001XA49 ,  4H001XA53 ,  4H001XA55 ,  4H001XA56 ,  4H001YA00 ,  4H001YA11 ,  4H001YA12 ,  4H001YA29 ,  4H001YA39 ,  4H001YA47 ,  4H001YA49 ,  4H001YA63 ,  4H001YA65 ,  4H001YA81 ,  4K029AA09 ,  4K029BA41 ,  4K029CA01 ,  4K029DB05
引用特許：
審査官引用 (6件)
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