特許
J-GLOBAL ID：200903089486908919
高効率プロセス加熱装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三觜 晃司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-142387
公開番号（公開出願番号）：特開平6-346061
出願日： 1993年06月14日
公開日（公表日）： 1994年12月20日
要約：
【要約】【目的】 温度分布の均一化、装置の小型化を図る加熱装置を提供するものである。【構成】 炉内にチューブを配管した炉体の基部に、蓄熱体を有する二ツの各バーナを一組として交互に燃焼する交番燃焼バーナを、前記各バーナを並列させて設置したことを特徴とするものである。炉体基部で一ツのバーナで発生した燃焼ガスは、配管したチューブを加熱しながら進行し、Uターンして、炉体基部の他のバーナから、蓄熱体によって顕熱を回収されつつ排出される。この時は、ダンパは閉止の状態とする。かかる燃焼を交互に行なうものである。炉内温度分布が均一化され、温度分布が向上すると共に排気ガス損失が減少して、従来装置に比較して30〜40%の省エネを達成することができる。また、かかる温度分布の均一化によって、理想的な熱交換が行なわれるので、装置全体を小型化できる上、局部的な高温部が形成されないので、装置の寿命の大巾な向上が得られる。
請求項（抜粋）：
炉内にチューブを配管した炉体の基部に、蓄熱体を有する二ツの各バーナを一組として交互に燃焼する交番燃焼バーナを、前記各バーナを並列させて設置したことを特徴とする高効率プロセス加熱装置。
引用特許：
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