特許

J-GLOBAL ID：200903089493020206

近接露光装置及び近接露光方法

発明者： 中村 剛
出願人/特許権者： 日本精工株式会社
代理人 (3件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-309125
公開番号（公開出願番号）：特開2009-134005
出願日： 2007年11月29日
公開日（公表日）： 2009年06月18日
要約：

【課題】比較的簡単な構成で、マスクの撓みを確実に防止して、露光精度を向上することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。【解決手段】近接露光装置PEのワークステージ1上には、保持された基板Wの周囲を囲むように弾性変形可能なシール部材23が設けられる。シール部材23は、マスクMと基板Wとの間の隙間が露光隙間gとなるようにワークステージ1とマスクステージ2の一方を接近移動させた時に、保持されたマスクMと当接可能であり、マスクMと基板Wとの間の隙間空間を密封して、隙間空間の圧力をマスクMの上方側の圧力よりも高くする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被露光材としての基板を保持可能なワークステージと、前記基板に対向配置されてマスクを保持可能なマスクステージと、前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備える近接露光装置であって、 前記ワークステージ上には、前記保持された基板の周囲を囲むように弾性変形可能なシール部材が設けられ、 該シール部材は、前記マスクと前記基板との間の隙間が露光隙間となるように前記ワークステージと前記マスクステージの一方を接近移動させた時に、前記保持されたマスクと当接可能であり、前記マスクと前記基板との間の隙間空間を密封して、該隙間空間の圧力を前記マスクの上方側の圧力よりも高くすることを特徴とする近接露光装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F7/20 501 ,  H01L21/30 511

Fターム (11件)：

2H097AB05 ,  2H097GA45 ,  2H097LA12 ,  5F046BA02 ,  5F046CA02 ,  5F046CB17 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC09 ,  5F046DA17 ,  5F046DA27

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第2672535号公報
  
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-225193   出願人：日本精工株式会社