露光装置およびその露光装置を用いた露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-063947
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084750
出願日： 1993年03月23日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：

【要約】【目的】同一のフォトマスクを用いて、ポジ型およびネガ型の両方の転写をすること、位相シフタを用いないで露光の解像力を向上させること、1回の露光で2以上の焦点を有すること、および1回の露光で2以上の露光量を有することを可能とする露光装置および露光方法を提供する。【構成】第1の反射型フォトマスク18aと、この第1の反射型フォトマスク18aを設置するための第1のマスクステージ100aと、第2の反射フォトマスク18bと、この第2の反射型フォトマスク18bを設置するための第2のマスクステージ180bと、光源11からの光11aを第1の反射型フォトマスク18aおよび第2の反射型フォトマスク18bに照射し、さらに第1の反射型フォトマスク18aおよび第2の反射型フォトマスク18bを反射した第1の露光光110cおよび第2の露光光110bを、ハーフミラー30により合成し、第3の露光光110eを形成し、半導体基板21上のレジスト膜21aに露光する。

請求項（抜粋）：

第1のフォトマスクを設置するための第1のマスクステージと、第2のフォトマスクを設置するための第2のマスクステージと、前記第1のフォトマスクから出る光のパターンを露光すべき基板にまで導くための第1光案内手段と、前記第1のフォトマスクから出る光のパターンを露光すべき前記基板にまで導くための第2光案内手段と、を備えた露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭60-086548
バツクライト
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-275022 出願人：東ソー株式会社
投影露光方法及び投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-084155 出願人：新日本製鐵株式会社

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