特許
J-GLOBAL ID:200903089541583323
目標物に対する膜の形成方法及び装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
澤木 誠一
, 澤木 紀一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-015961
公開番号(公開出願番号):特開2006-200033
出願日: 2005年01月24日
公開日(公表日): 2006年08月03日
要約:
【課題】 従来、減圧下でなければ、超微粒子を目標物上に衝突させて目標物上に膜を形成せしめることができないという欠点があった。【解決手段】 本発明の目標物に対する膜の形成装置は、微粒子と、上記微粒子の加速ガスと、上記微粒子と上記加速ガスを目標物上に噴射せしめる手段とよりなり、上記噴射により上記目標物上に膜を形成せしめることを特徴とする。また、目標物に対する膜の形成方法は、微粒子を選別する工程と、上記選別した微粒子と加速ガスを目標物上に噴射せしめ、上記目標物上に膜を形成せしめる工程とより成ることを特徴とする。上記微粒子又は第1の微粒子はセラミックス粒子又は金属粒子である。上記第2の微粒子はレジン粒子又は金属粒子である。上記セラミックス粒子が歯質成分粒子であり、目標物は歯である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
微粒子と、上記微粒子の加速ガスと、上記加速ガスを目標物上に噴射せしめる手段とよりなり、上記噴射により上記目標物上に膜を形成せしめることを特徴とする目標物に対する膜の形成装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (10件):
4C052AA17
, 4C052HH08
, 4K044AA06
, 4K044AA12
, 4K044AA13
, 4K044BA01
, 4K044BA11
, 4K044CA23
, 4K044CA29
, 4K044CA71
引用特許:
審査官引用 (2件)
-
複合構造物およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-206504
出願人:独立行政法人産業技術総合研究所, 東陶機器株式会社
-
脆性材料構造物の低温形成法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-320886
出願人:独立行政法人産業技術総合研究所, 東陶機器株式会社
前のページに戻る