特許

J-GLOBAL ID：200903089544389072

プラズマ化学蒸着装置

発明者： 久留 正敏 ,  堀岡 竜治 ,  小鍛治 聡司 ,  山越 英男 ,  縄田 芳一
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-271179
公開番号（公開出願番号）：特開平11-111622
出願日： 1997年10月03日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：

【要約】【課題】プラズマの不均一性を改善して均一な薄膜を形成する。【解決手段】真空容器21と、この真空容器内に配置された原料ガス供給管22と、前記真空容器内に原料ガス供給管と向き合うように配置され、原料ガス供給管側に被処理物を支持するとともに被処理物を加熱する支持兼加熱部材23と、前記原料ガス供給管と支持兼加熱部材間に配置された高周波放電電極26とを具備したプラズマ化学蒸着装置において、前記高周波放電電極は主面が網目状に配置され、かつ給電点を前記高周波放電電極面の中央とした構成であることを特徴とするプラズマ化学蒸着装置。

請求項（抜粋）：

真空容器と、この真空容器内に原料ガスを導入し、排出する手段と、前記真空容器内に配置され、被処理物を支持するとともに被処理物を加熱する支持兼加熱部材と、前記真空容器内に配置された高周波放電電極とを具備したプラズマ化学蒸着装置において、前記高周波放電電極は主面が網目状であり、かつ給電点を前記高周波放電電極面の中央とした構成であることを特徴とするプラズマ化学蒸着装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  H01L 31/04

FI (2件)：

H01L 21/205 ,  H01L 31/04 V

引用特許：

出願人引用 (3件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-246607   出願人：東京エレクトロン株式会社
• プラズマ反応装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-242603   出願人：三菱重工業株式会社
• マグネトロン型誘導結合方式放電反応装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-020219   出願人：三菱重工業株式会社

審査官引用 (1件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-246607   出願人：東京エレクトロン株式会社