プラズマ表面処理装置

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：明田莞
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-276648
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088480
出願日： 2000年09月12日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】帯状基板を基板の支持手段により支持させて回転電極に対向させると共に帯状基板を連続的に搬送させながら回転電極と帯状基板との間にプラズマを発生させて帯状基板の表面処理をするプラズマ表面処理装置であって、帯状基板と回転電極との間隔を0.1〜1mmで高精度に保持することができるプラズマ表面処理装置を提供する。【解決手段】前記基板の支持手段として円柱状又は円筒状の回転体を用い、この回転体の回転軸と前記回転電極の回転軸とを平行にさせて配置したことを特徴とするプラズマ表面処理装置。

請求項（抜粋）：

表面処理室内に回転電極と、帯状基板を支持する基板の支持手段とを有し、帯状基板を前記基板の支持手段により支持させて前記回転電極に対向させると共に、前記帯状基板をこの長手方向に移動させながら、前記回転電極と前記帯状基板との間にプラズマを発生させて前記帯状基板の表面処理をするプラズマ表面処理装置であって、前記基板の支持手段として円柱状又は円筒状の回転体を用い、この回転体の回転軸と前記回転電極の回転軸とを平行にさせて配置したことを特徴とするプラズマ表面処理装置。

IPC (5件)：

C23C 16/54 , C23C 16/509 , H01L 21/205 , H01L 21/304 645 , H01L 31/04

FI (5件)：

C23C 16/54 , C23C 16/509 , H01L 21/205 , H01L 21/304 645 C , H01L 31/04 V

Fターム (36件)：

4K030AA06 , 4K030AA17 , 4K030BA30 , 4K030CA02 , 4K030CA07 , 4K030CA17 , 4K030FA03 , 4K030GA14 , 4K030KA10 , 4K030KA15 , 4K030LA16 , 5F045AB04 , 5F045AC01 , 5F045AC17 , 5F045AD05 , 5F045AE29 , 5F045AF07 , 5F045BB09 , 5F045CA13 , 5F045DP22 , 5F045EH04 , 5F045EH13 , 5F045EK01 , 5F045EK22 , 5F045EM04 , 5F051AA05 , 5F051CA16 , 5F051CA22 , 5F051CA23 , 5F051CA24 , 5F051CA32 , 5F051DA04 , 5F051GA02 , 5F051GA03 , 5F051GA05 , 5F051GA06

引用特許：

審査官引用 (5件)

放電処理装置および放電処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-189262 出願人：東レ株式会社
回転電極を用いた高速成膜方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-201722 出願人：三洋電機株式会社, 森勇藏
基板ハンドリング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-188164 出願人：日新電機株式会社

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