特許
J-GLOBAL ID：200903089574446909

光触媒リソグラフィー法

発明者：
立間 徹

立間 徹 について

, 
藤嶋 昭

藤嶋 昭 について

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久保 若奈

久保 若奈 について


出願人/特許権者：
財団法人生産技術研究奨励会

財団法人生産技術研究奨励会 について


代理人 (1件)： 志賀 正武 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-043711
公開番号（公開出願番号）：特開2003-236390
出願日： 2002年02月20日
公開日（公表日）： 2003年08月26日
要約：
【要約】【課題】 被処理物表面にレジストを塗布することなく、所定のパターン状に表面をエッチング、変性を行う、または機能性物質を導入する方法を提供する。【解決手段】 一方の面に光触媒層を有する板状透明支持体を、該支持体の光触媒層側を被処理物側に向けて、3mm以下の間隔をあけて被処理物に対峙させ、支持体の他方の面側に紫外線または可視光を照射、または1本または複数本の光ファイバの一方の先端に設けた光触媒層を3mm以下の間隔をあけて被処理物に対峙させつつ、光ファイバの他方の端から紫外線または可視光を入光して光触媒反応により活性種を生成させ、この活性種により被処理物表面を所定のパターンでエッチングまたは変性する光触媒リソグラフィー法、および変性部分または非変性部分のみに機能性物質を結合する機能性物質導入方法。
請求項（抜粋）：
一方の面に光触媒層を有する板状透明支持体を、該支持体の光触媒層側を被処理物側に向けて、3mm以下の間隔をあけて被処理物に対峙させ、支持体の他方の面側に紫外線または可視光を照射して、光触媒反応により活性種を生成させ、この活性種により被処理物表面を所定のパターンでエッチングまたは変性することを特徴とする光触媒リソグラフィー法。
IPC (4件)：
B01J 35/02 ,  B01J 19/12 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/36
FI (5件)：
B01J 35/02 J ,  B01J 19/12 C ,  B01J 19/12 G ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/36
Fターム (22件)：
2H025BH03 ,  2H025FA19 ,  2H096GA36 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04B ,  4G069BA14B ,  4G069BA48A ,  4G069DA06 ,  4G069EA08 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA05 ,  4G075BC06 ,  4G075CA32 ,  4G075CA33 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB31 ,  4G075FB20 ,  4G075FC04
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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