特許
J-GLOBAL ID：200903078710897225

パターン形成体の製造方法およびそれに用いるフォトマスク

発明者：
小林 弘典

小林 弘典 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 山下 昭彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-086168
公開番号（公開出願番号）：特開2003-295428
出願日： 2002年03月26日
公開日（公表日）： 2003年10月15日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、露光後の後処理が不要で、かつ製造されたパターン形成体内に光触媒が含有されていないことから、パターン形成体自体の劣化の心配もないパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 本発明は、光触媒の作用により表面の特性が変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板を調製するパターン形成体用基板調製工程と、光触媒を含有する光触媒含有層が基材上に形成されてなる光触媒含有層側基板の光触媒含有層と上記特性変化層とを、200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、上記特性変化層表面に特性の変化したパターンを形成するパターン形成工程とを有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。
請求項（抜粋）：
光触媒の作用により表面の特性が変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板を調製するパターン形成体用基板調製工程と、光触媒を含有する光触媒含有層が基材上に形成されてなる光触媒含有層側基板の光触媒含有層と前記特性変化層とを、200μm以下となるように間隙をおいて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、前記特性変化層表面に特性の変化したパターンを形成するパターン形成工程とを有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (5件)：
G03F 7/004 521 ,  B01J 35/02 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/075 511
FI (5件)：
G03F 7/004 521 ,  B01J 35/02 J ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 1/08 A ,  G03F 7/075 511
Fターム (35件)：
2H025AB13 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BH03 ,  2H048BA02 ,  2H048BA45 ,  2H048BA48 ,  2H048BB02 ,  2H048BB34 ,  2H095BA12 ,  2H095BB01 ,  2H095BB06 ,  2H095BC05 ,  2H095BC27 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BC12A ,  4G069BC22A ,  4G069BC23A ,  4G069BC35A ,  4G069BC50A ,  4G069BC60A ,  4G069BC66A ,  4G069CD10 ,  4G069DA05 ,  4G069EA08 ,  4G069EC22Y ,  4G069FA03 ,  4G069FB01 ,  4G069FB23 ,  4G069FB30
引用特許：
審査官引用 (5件)
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