特許
J-GLOBAL ID：200903089671328716

基板処理装置

発明者：
松田 比渡史

松田 比渡史 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-066501
公開番号（公開出願番号）：特開平10-261610
出願日： 1997年03月19日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：
【要約】【課題】 液寿命の短い薬液を使用する場合であっても、処理効率を向上することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理に先立って、薬液槽の一部交換の交換液量、一部交換の回数および薬液の使用寿命を設定しておく。この設定は任意の値とすることが可能である。そして、基板浸漬処理を開始し、薬液の使用寿命に達したときに一部交換を行う。一部交換は、薬液槽中に基板が存在しないときに行い、薬液を一部排液した後、その排液したのと同量の新たな薬液を補充することにより行う。予め設定した一部交換の回数を繰り返した後、薬液の全部を交換する全液交換を実施する。薬液交換に交換時間の短い一部交換を組み込むことにより交換時間の長い全液交換の回数が減少し、液寿命の短い薬液を使用する場合であっても装置全体としての処理効率が向上する。
請求項（抜粋）：
基板に対して浸漬処理を行う基板処理装置において、(a) 薬液を貯留し、前記薬液中において基板に浸漬処理を行う薬液槽と、(b) 前記薬液のうちの一部を交換する薬液交換手段と、(c) 前記薬液が液寿命よりも短い使用寿命に達したときでかつ前記浸漬処理が行われていないときに前記薬液交換手段に前記薬液の一部交換をさせる交換制御手段と、を備えていることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/306
FI (3件)：
H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/306 J
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-056424   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロンエフイー株式会社
  • 特開昭62-078828
  • 洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-350950   出願人：ソニー株式会社

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