特許
J-GLOBAL ID：200903089682280456
重ね合わせ精度測定方法
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
大西 健治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-261524
公開番号（公開出願番号）：特開平10-270354
出願日： 1997年09月26日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：
【要約】【課題】 短時間の重ね合わせ精度測定でTIS成分を正確に補正すること。【解決手段】 本発明は、測定対象となるウエハでの複数の測定点のうち、一部の測定点<2>、<4>、<7>だけ第1のパターンと第2のパターンとの重ね合わせ精度を平面視正立像および平面視倒立像によって測定し、これ以外の測定点<1>、<3>、<5>、<6>、<8>、<9>では重ね合わせ精度を平面視正立像または平面視倒立像によって測定する工程と、一部の測定点だけ測定した平面視正立像での重ね合わせ精度の測定値と平面視倒立像での重ね合わせ精度の測定値との差分の平均値を求め、測定対象となるウエハの各測定点<1>〜<9>での重ね合わせ精度の測定値から前記平均値を差し引いて補正を行う工程とを備えている。
請求項（抜粋）：
基板上に形成した第1のパターンと該第1のパターン上に形成した第2のパターンとの重ね合わせ精度を平面視像によって測定する方法において、測定対象となる基板での複数の測定点のうち、一部の測定点だけ前記重ね合わせ精度を平面視正立像および平面視倒立像によって測定し、該一部の測定点以外の測定点では該重ね合わせ精度を平面視正立像または平面視倒立像によって測定する工程と、前記一部の測定点だけ測定した前記平面視正立像での重ね合わせ精度の測定値と前記平面視倒立像での重ね合わせ精度の測定値との差分の平均値を求め、前記測定対象となる基板の各測定点での重ね合わせ精度の測定値から該平均値を差し引いて補正を行う工程とを備えていることを特徴とする重ね合わせ精度測定方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G01B 11/00
, G03F 9/00
, H01L 21/66
H01L 21/30 525 W
, G01B 11/00 H
, G03F 9/00 H
, H01L 21/66 J
, H01L 21/30 525 Z
