特許
J-GLOBAL ID：200903089712284087
磁気ヘッド及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-350593
公開番号（公開出願番号）：特開平11-007608
出願日： 1997年12月19日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：
【要約】【課題】磁気ヘッドの製造方法に関し、磁気記録媒体に対向する側に窪みが発生せず、帯電に強く、且つ磁極幅の精度を高くすること。【解決手段】ウェハ1の上に下部磁極3を形成し、下部磁極3の上に非磁性層8を形成し、先端が細いポールティップ15aを有する上部磁極15を非磁性層8の上に形成し、ポールティップ15aの側部とその直下の非磁性層8及び下部磁極に集束イオンビームを膜厚方向に照射し且つポールティップ15aの外から側部に向けて移動しながら照射することによりポールティップ15aの幅を狭くするとともにポールティップ15aの側面直下から外側への領域の下部磁極3に凹部7aを形成して該凹部7aに挟まれた下部磁極7の幅をポールティップ15aの幅に揃え、凹部7aを充填するとともに上部磁極15及び下部磁極7を覆う非磁性保護層16を形成する工程とを含む。
請求項（抜粋）：
ウェハの上に下部磁極を形成する工程と、前記下部磁極の上に非磁性ギャップ層を形成する工程と、前記非磁性ギャップ層の上で、非磁性絶縁層に挟まれるコイルを形成する工程と、先端が細く且つ前記非磁性ギャップ層上でポールティップを有する上部磁極を前記非磁性絶縁層の上に形成する工程と、前記ポールティップの側部とその直下の前記非磁性絶縁層及び前記下部磁極に集束イオンビームを膜厚方向に照射することにより、前記ポールティップの幅を狭くするとともに、前記ポールティップの側面直下から外側への領域の前記下部磁極に凹部を形成して該凹部に挟まれた前記下部磁極の幅を前記ポールティップの幅に揃える工程と、前記凹部に充填するとともに、前記上部磁極及び前記下部磁極を覆う非磁性絶縁材よりなる保護層を形成する工程とを有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G11B 5/31 D
, G11B 5/31 C
, G11B 5/31 K
, G11B 5/39
