特許
J-GLOBAL ID:200903089801782040

粒子線治療装置,レンジモジュレーション回転装置及びレンジモジュレーション回転装置の取り付け方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 作田 康夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-317656
公開番号(公開出願番号):特開2005-080945
出願日: 2003年09月10日
公開日(公表日): 2005年03月31日
要約:
【課題】 治療人数を増加できる粒子線治療装置を提供することにある。【解決手段】 荷電粒子ビーム発生装置2から出射された荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射野形成装置13は、RMW装置20を備える。RMW装置20は、筺体27及び筺体27内に配置されたRMW21を有する。RMW21の回転軸22は筺体27に回転可能に取り付けられる。RMW装置20は照射野形成装置13のケーシング16に設けられたRMW保持部材19内に着脱可能に設置される。筺体27をRMW保持部材19に接触させることができるため、RMW21の回転軸22の所定位置への位置決めを短時間に行うことができる。これは、患者1人当りの治療に要する時間を短縮することができ、治療人数を増大できる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
荷電粒子ビームを発生する荷電粒子ビーム発生装置と、荷電粒子ビーム発生装置から出射された荷電粒子ビームが通過するレンジモジュレーション回転装置を有する荷電粒子ビーム照射装置とを備え、 前記レンジモジュレーション回転装置は、筺体、及び前記筺体内に配置されて前記筺体に回転可能に取り付けられ、前記荷電粒子ビームが通過するレンジモジュレーション回転体を有することを特徴とする粒子線治療装置。
IPC (1件):
A61N5/10
FI (3件):
A61N5/10 P ,  A61N5/10 H ,  A61N5/10 J
Fターム (9件):
4C082AC04 ,  4C082AC05 ,  4C082AE02 ,  4C082AG22 ,  4C082AG33 ,  4C082AG34 ,  4C082AG42 ,  4C082AG44 ,  4C082AN02
引用特許:
審査官引用 (4件)
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