特許
J-GLOBAL ID：200903089918188793

化学増幅型レジスト組成物、その製造方法及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
漢那 慎一

漢那 慎一 について

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水谷 一良

水谷 一良 について

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佐々木 知也

佐々木 知也 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-294270
公開番号（公開出願番号）：特開2004-219981
出願日： 2003年08月18日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：
【課題】 160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ経時保存後のパーティクル増加及び経時保存後の感度変動が小さい化学増幅型レジスト組成物、その製造方法及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 (A)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)溶剤を含有し、且つ金属不純物の含有量が、100ppb以下である化学増幅型レジスト組成物、その製造方法及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大するフッ素原子含有樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (C)溶剤 を含有し、且つ金属不純物の含有量が、100ppb以下であることを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F7/039 ,  C08F12/14 ,  C08F20/22 ,  C08F32/08 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027
FI (6件)：
G03F7/039 601 ,  C08F12/14 ,  C08F20/22 ,  C08F32/08 ,  G03F7/26 ,  H01L21/30 502R
Fターム (34件)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096GA08 ,  2H096LA30 ,  4J100AB07P ,  4J100AL08Q ,  4J100AR09R ,  4J100AR11R ,  4J100BA02Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA04R ,  4J100BA11R ,  4J100BB07P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB07R ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100DA39 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 国際公開第00/17712号パンフレット
  • レジスト塗布組成物溶液
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-351164   出願人：日本合成ゴム株式会社

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