特許
J-GLOBAL ID:200903089008307179
レジスト塗布組成物溶液
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
福沢 俊明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-351164
公開番号(公開出願番号):特開平6-175359
出願日: 1992年12月07日
公開日(公表日): 1994年06月24日
要約:
【要約】【目的】 特にレジスト感度の安定性に優れたレジスト塗布組成物溶液を提供する。【構成】 感放射線性酸発生剤を含有するレジスト塗布組成物溶液において、金属の合計含有量が単体換算で200ppb以下であることを特徴とするレジスト塗布組成物溶液。
請求項(抜粋):
放射線の照射により酸を発生する成分を含有し、その酸の触媒作用による化学反応により、放射線照射部分における現像液に対する溶解性が変化することによって、レジストパターンを形成するレジスト塗布組成物の溶液において、溶液中の金属の合計含有量が単体換算で200ppb以下であることを特徴とするレジスト塗布組成物溶液。
IPC (5件):
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/038 505
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
引用特許:
審査官引用 (5件)
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特開昭63-126502
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特開昭59-176303
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特表平7-504762
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