特許
J-GLOBAL ID：200903089919812792
耐紫外線・耐放射線シリカガラスおよびその製造方法、耐紫外線・耐放射線光学素子およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
足立 勉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-121889
公開番号（公開出願番号）：特開2000-086258
出願日： 1999年04月28日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：
【要約】【課題】紫外吸収端を短波長化した上で優れた紫外線耐性および放射線耐性が得られるシリカガラスを得る。【解決手段】純粋シリカガラスのサンプルA〜Cを用意し、サンプルA〜CにArFエキシマレーザを照射し、その照射ショット数に対する紫外光の透過率の減少度合を測定した。サンプルAでは照射ショット数が増大しても透過率はほとんど減少しない。サンプルAが優れた紫外線耐性および放射線耐性を得られるのは、紫外線照射処理でガラス中に多くの構造欠陥を積極的に発生させ、その構造欠陥を熱処理にて取り除くことで、ガラス中のSi-O-Siネットワークの結合角の平均が処理前の値に比べて広がり、構造緩和が進んで構造的に安定なガラスとなり、紫外線照射による欠陥の生成が抑制されるためである。従って、ガラス中の水酸基濃度を増大させて紫外線耐性および放射線耐性を高めるのではないため、紫外吸収端の波長は長くならない。
請求項（抜粋）：
シリカガラスに対して紫外線照射後に熱処理が施されたか又は紫外線照射と同時に熱処理が施されたことを特徴とする耐紫外線・耐放射線シリカガラス。
IPC (4件)：
C03B 20/00
, C03C 23/00
, G02B 1/02
, G02B 6/10
C03B 20/00 E
, C03C 23/00 D
, G02B 1/02
, G02B 6/10 C
