気化装置及びCVD装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：前田弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-300118
公開番号（公開出願番号）：特開平10-140356
出願日： 1996年11月12日
公開日（公表日）： 1998年05月26日
要約：

【要約】【課題】経時変化を伴わず且つ安定した気化原料を生成できるようにし、汎用的で高品質な成膜ができるようにする。【解決手段】気化装置10Aは液体原料11を収納する液体原料容器12と、液体原料11を加熱手段21で加熱して気化させることにより液体原料11から気化原料13を生成する気化器14とを備えている。液体原料容器12の底面下部には、液体原料11の液面を超音波15で振動させることにより液体原料11から微粒子状の液滴16を液体原料11の液面に生じさせる超音波発振器17が設けられている。液体原料容器12の上部には、液滴16が混合された搬送用ガス18を液体原料容器12から搬出する搬出管20が設けられている。気化器14には、該気化器14によって気化された気化原料13を反応炉50に搬送する気化原料搬送管22が気化器14の搬出側の開口端に接続されている。

請求項（抜粋）：

液体原料を収納する液体原料容器と、前記液体原料容器に設けられ、前記液体原料の液面を超音波で振動させることにより、前記液体原料から微粒子状の液滴を前記液面に生じさせる超音波発振器と、前記液滴と混合され該液滴を搬送するための搬送用ガスを前記液体原料容器内に供給する搬送用ガス供給管と、前記液体原料容器内で前記搬送用ガスに混合された前記液滴を搬送しながら加熱手段で加熱して気化することにより気化原料を生成すると共に、生成された気化原料を搬送する気化原料搬送管とを備えていることを特徴とする気化装置。

IPC (2件)：

C23C 16/44 , H01L 21/205

FI (2件)：

C23C 16/44 C , H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-175630
CVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-238315 出願人：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
特開平2-022106

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