特許
J-GLOBAL ID:200903089982670876

ガス処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中島 淳 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-113602
公開番号(公開出願番号):特開2000-300960
出願日: 1999年04月21日
公開日(公表日): 2000年10月31日
要約:
【要約】【課題】 小型で高濃度の有害ガスを効率良く分解できるガス処理装置を提供すること。【解決手段】 断面が渦巻き状とされ、壁面に光触媒を担持した気体通路22の内部に複数の紫外線ランプ38を配置し、気体通路22の一端にブロア14を連結する。紫外線ランプ38の紫外線が光触媒に照射されると、光触媒が光触媒活性を示す。ブロア14が作動すると、室内のホルマリンガスを含んだ空気が気体通路22に流入して光触媒に接触し、ホルマリンガスが炭酸ガスと水に分解されて無害化され、室内に排出される。気体通路22を断面渦巻き状としたので、フィルターやハニカムに比較して圧損が少なく、また気体通路22内で空気を滞留させることなく、流入させたホルマリンガスを含んだ空気を気体通路22の壁面全体に渡って均一に接触させ、効率的にホルマリンガスを分解できる。
請求項(抜粋):
断面が渦巻き状とされ、壁面に光触媒を担持した気体通路と、前記壁面の光触媒に光を照射する光源と、前記気体通路に連結され、前記気体通路の渦巻き方向の一端から処理対象の気体を流入させ他端から排出させる送風機と、を有することを特徴とするガス処理装置。
IPC (5件):
B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  A61L 9/00 ,  A61L 9/20 ,  B01J 35/02
FI (5件):
B01D 53/36 ZAB J ,  A61L 9/00 C ,  A61L 9/20 ,  B01J 35/02 J ,  B01D 53/36 G
Fターム (40件):
4C080AA07 ,  4C080AA10 ,  4C080BB02 ,  4C080CC02 ,  4C080CC12 ,  4C080JJ03 ,  4C080KK08 ,  4C080MM02 ,  4C080QQ11 ,  4C080QQ17 ,  4C080QQ20 ,  4D048AA17 ,  4D048AA19 ,  4D048AB01 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA13X ,  4D048BA41X ,  4D048BB05 ,  4D048BB07 ,  4D048CC21 ,  4D048CC23 ,  4D048CC36 ,  4D048CC38 ,  4D048CC45 ,  4D048CC63 ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA18 ,  4G069BA48A ,  4G069CA07 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA17 ,  4G069EA06 ,  4G069EA12 ,  4G069EB03 ,  4G069EE08
引用特許:
審査官引用 (5件)
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